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Enscape 3D是一個3D仿真工具，支持Revit、SketchUp、Rhino和ArchiCAD等軟件。使用Enscape 3D的實時技術(shù)，您的項目將在漫游3D中完全顯示，可以在一天中的任何時間從各個角度進行導(dǎo)航和探索。通過Enscape 3D和CAD程序之間的直接鏈接，您可以立即跟蹤其計劃的所有更新。在你的工作中加入更多的escape，給你更多的時間去創(chuàng)造和創(chuàng)新

Enscape v4.2新功能：

1.Enscape Impact 附加組件

這款全新的附加組件可讓您在設(shè)計的早期階段查看建筑的能源性能，從而幫助您就設(shè)計的可持續(xù)性做出明智的決定。它與 Enscape 4.1 和 4.2 兼容。擁有有效 Enscape 許可證的客戶可以獲得14 天的 Enscape Impact 試用版。

訪問高級建筑性能數(shù)據(jù)。

輕松與利益相關(guān)者溝通績效效率。

2.Revit 圖形覆蓋

查看 Revit 過濾器定義的渲染中的材質(zhì)和顏色覆蓋。此功能可確保渲染工具反映 Revit 中使用的相同對象外觀和覆蓋，從而增強工作流程和演示準確性。

保持 Revit 和 Enscape 之間的一致性，簡化設(shè)計和演示流程。

通過在 Enscape 中顯示或隱藏 Revit Filter 覆蓋來控制渲染視圖。

3.支持 Rhino 中的 WCS 映射

此功能允許您利用世界坐標系 (WCS) 映射材料，提供更靈活的工作流程并確保真實世界的比例和準確性，特別是對于默認設(shè)置為使用 WCS 映射的庫材料。

通過精確的材質(zhì)渲染獲得更準確的視覺輸出。

使用默認為 WCS 映射的庫材料簡化設(shè)計流程。

4.軟件光線追蹤改進

這些改進包括全局照明和太陽陰影的軟件光線追蹤，可讓您的渲染更加逼真。享受更逼真的照明、細致的陰影、鏡面反射和增強的色彩準確性。而且，您的太陽陰影可從更準確的光線方向、強度和柔和度中受益。

在任何設(shè)備上提供高質(zhì)量的渲染，包括 Mac 和具有集成顯卡的機器。

在沒有硬件光線追蹤的機器上實現(xiàn)與硬件光線追蹤相當?shù)囊曈X保真度。

5.多個剖面

剖面圖對于理解和傳達建筑空間至關(guān)重要。此更新使 Enscape 能夠支持在 Rhino 中渲染最多六個剖面和在 Vectorworks 中渲染剪切立方體，從而增強詳細的橫截面可視化。

更好地了解客戶并進行有影響力的演示。

擁有更多控制選項并按照您想要的方式講述設(shè)計故事。

6.Chaos Cloud

通過此集成，您可以在Chaos Cloud上執(zhí)行設(shè)計審查流程的每個步驟。上傳全景圖和渲染圖，并使用標記工具直接在可視化效果上進行注釋。您還可以分配平面圖并使用迷你地圖協(xié)助游覽導(dǎo)航。

在一個地方輕松與您的團隊和同事協(xié)作

讓客戶通過高級虛擬游覽探索設(shè)計

更新功能：

Enscape Impact 改進

能源使用強度刻度盤控件現(xiàn)在包含圖例。由于不同語言的文本較長，標簽不再被剪切。我們還改進了僅在更改 Enscape Impact 設(shè)置后重新運行分析時的性能。

安裝程序現(xiàn)在刪除了以前的每個用戶插件注冊，

用戶從以前的 Enscape 版本升級時遇到的問題會更少。

批量渲染 - 不導(dǎo)出具有正交或兩點投影的視圖，

以前，導(dǎo)出這些視圖時會自動將其投影更改為透視圖。

藝術(shù)模式 – 顯示透明表面的色調(diào)

以前，所有透明表面都渲染為灰藍色。現(xiàn)在我們顯示每個表面的材質(zhì)色調(diào)。

藝術(shù)模式 – 可以使用新的“表面細節(jié)”滑塊調(diào)整水彩紋理細節(jié)/強度

我們意識到當前的水彩筆觸對于某些風格來說可能過于強烈，因此新的滑塊可以進行調(diào)整。值為 0 會刪除任何紋理并提供類似于卡通渲染的效果。

藝術(shù)模式 - 透明表面后面的筆觸不再是灰色，

筆模式是使用黑色筆繪制線條，因此使用灰色筆并不完全合適。

藝術(shù)模式 - 調(diào)整輪廓檢測后，

人們的臉部現(xiàn)在看起來更清晰，更接近他們的 3D 形象。

自定義資產(chǎn)編輯器 – 防止出現(xiàn)問題的文件夾

選擇選擇相同或嵌套的項目和輸出目錄可能會導(dǎo)致不同的問題。因此，應(yīng)用程序現(xiàn)在會進行額外的檢查，并嘗試防止出現(xiàn)錯誤和警告消息。

渲染器啟動和模式切換時間已得到改善